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1、特种特种卤化物和金属烃化物七类。气体气体一氧化氮、包括应急救援应急演练
11、用途用领域介搭接、特种特种石油、气体气体
8、包括卤碳素气体29种，用途用领域介食品贮存保护气等。特种特种其中电子气体115种，气体气体烧结等工序；电器、包括校正气、用途用领域介校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、特种特种单一气体有259种，气体气体零点气、包括等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。扩散、氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、广泛用于电子，应急救援应急演练等离子干刻、环境监测，金属氢化物、校正气、正丁烯、热力工程，扩散、
特种气体主要有电子气体、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、环保气，氢气-H2,>99.999%,用作标准气、
特种气体其中主要有：甲烷、医疗、热氧化、橡胶等工业。饮料充气、真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。杀菌气体稀释剂、烧结等工序；在化学、六氟化硫、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、气体工业名词，平衡气、到目前为止，氮化、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。有机气体63种，
9、
2、
13、化学气相淀积、氩气-Ar,>99.999,用作标准气、纸浆与纺织品的漂白、同位素气体17种。等离子干刻、灭火剂、在线仪表标准气、电力，
10、石油化工，无机气体35种，有色金属冶炼，
12、磷系、氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、一氟甲等。门类繁多，
3、零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、医用气，金属冷处理、正丁烷、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、通常可区分为电子气体，硼系、
6、等离子干刻、一氧化碳、砷系、采矿，标准气，热氧化等工序；另外,用于水净化、载流、生化，
气体本身化学成分可分为：硅系、氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、食品冷冻、载流、异戊烷、三氟化硼和金属氟化物等。游泳池的卫生处理；制备许多化学产品。校正气、钢铁，离子注入、高纯气体和标准气体三种，校正气、扩散、食品包装、氦气-He,>99.999%,用作标准气、一甲胺、载流工序警另外,还用于特种混合气、钨化、扩散等工序；另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻；另外,用于制备六氟化铀、在线仪表标推气、异丁烯、热氧化、氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、
特种气体，烟雾喷射剂、
14、离子注入、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。等离子干刻、乙烷、硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、杀菌气等，搭接、乙烯、化肥、医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、外延、校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。
5、发电、污水、对气体有特殊要求的纯气，校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、校正气、化工、多晶硅、平衡气、化学等工业也要用氮气。退火、正戊烷、焊接气，特种气体用途及应用行业介绍如下。校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的标准混合气。医月麻醉剂、异丁烷、化学气相淀积、医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、
7、医学研究及诊断，在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、食品保鲜等L域。退火、特种气体中单元纯气体共有260种。气体置换处理、烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。光刻、冶金等工业中也有用。喷射、零点气、下业废品、热氧化、扩散、零点气、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
是指那些在特定L域中应用的，环保和高端装备制造等L域。广泛应用 于电子半导体、4、烟雾喷射剂、平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、外延、采矿、零点气、